当时我国半导体企业首要是做下流的一些封装事务，工业的中心产品首要依赖于进口，近年来每年的进口额高达数万亿，已接连多年超越石油的进口，很多的外汇流出不说，

　　近年来，老美主导的“芯片法案”“实体清单”等等事情，提醒着咱们，在信息工业，半导体工业，当时咱们如同彻底被老美戏弄于股掌之中。

　　中心技能的缺失，关于一个工业来说是丧命的，在半导体范畴因为我国无法出产出高端的光刻机，并且在进口的道路上也被老美所封堵，导致工业的开展严峻受挫，现如今的局势便是——有钱也买不到货。

　　我国作为全球半导体职业最大的商场，占到全球的35%左右，对那些断供的企业来说，其本身的丢失也是巨大的，（最好的比如便是台积电）

　　近期的采访中，比尔盖茨就说过，任何的制裁都无法约束我国在半导体芯片职业的兴起，过大的制裁只会让他们更快的兴起，而本身企业现有的技能盈利跟着时刻的推移也将全面荡然无存。

　　高端光刻机被誉为迄今为止是人类制造出来的最精细的仪器（没有之一），其内部的配件高达十多万个，截止到现在全球也仅有4家企业能出产光刻机，分别是荷兰的ASML，日本的佳能、尼康、我国的上海微电子。

　　就在本年我国上海微电子公司宣告成功打破22nm光刻机的中心技能，将制品或将在本年完成下线nm的光刻机比较于前排企业距离也是清楚明了的，人家都现已放线nm的顶级光刻机了，但要留意的是，我国是在他国紧密封闭下，

　　这一点就连荷兰也做不到。此次的要害技能的打破，无疑给国内半导体工业，带来了新的期望，重拾决心，为未来研制愈加高端的光刻机奠定了杰出的根底。

　　光刻机的出产触及系统集成、精细光学、精细运动、高精度微环境操控等多项先进的技能，触及到的供给厂家也是几百上千家，

　　凭仗职业抢先的技能实力，UCMAG为ASML（荷兰光刻机制造商阿斯麦公司）及其供给商供给极紫外光刻机（EUV）的光学系统相关中心部件的整理洗刷设备。

　　作为与光刻机合作进行作业的要害处理设备，公司出产的涂胶/显影机成功打破国外厂商独占并填补国内空白。

　　公司参股的科华微电子是国内具有并正常运用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。

　　国内仅有一家具有8英寸立式分散炉和清洗设备出产能力的公司，自主研制14nm等离子硅刻蚀机，除了半导体设备，也包含真空设备事务（光伏）、电子元器件事务。